Descripción
Las válvulas de diafragma ALD3 y ALD6 ofrecen una larga vida útil, una actuación de alta velocidad y un gran rendimiento en aplicaciones de deposición de capas atómicas.
Las válvulas de diafragma Swagelok series ALD3 y ALD6 se utilizan en las herramientas de fabricación de semiconductores para conseguir la dosificación controlada necesaria para el proceso de deposición de capas atómicas (ALD). Tienen un ciclo de vida útil ultra largo, actuación a alta velocidad y coeficientes de caudal de hasta 0,62.
Las válvulas de diafragma Swagelok® ALD3 y Swagelok® ALD6 de ultra alta pureza están diseñadas para ofrecer a los fabricantes de semiconductores una dosificación fiable y de alta velocidad de los gases precursores utilizados para construir microchips capa a capa en las cámaras de deposición. Estas válvulas de ultra alta pureza y alto rendimiento tienen un ciclo de vida útil ultra largo, son totalmente sumergibles a temperaturas elevadas e idóneas para las aplicaciones de ultra alta pureza.
Los diafragmas utilizados en las válvulas ALD3 y ALD6 están compuestos por un material de superaleación a base de cobalto que ofrece solidez y resistencia a la corrosión. El cuerpo de las válvulas es de acero inoxidable 316L VIM-VAR, lo que las hace perfectas para aplicaciones de ultra alta pureza. Los asientos de las válvulas están hechos de PFA fluorado de ultra alta pureza para permitir un amplio rango de compatibilidad química y resistencia a la deformación y la contaminación. Estas válvulas pueden ser configuradas para actuación neumática normalmente cerrada y normalmente abierta, y están disponibles en una variedad de configuraciones para adaptarse a diferentes requisitos de instalación.
Referencias
Escríbenos con la referencia o la aplicación y te ayudamos a elegir la configuración correcta.